Машина для маркировки с помощью УФ-лазера
Система маркировки с помощью УФ-лазера отличается высокой эффективностью фотоэлектрического преобразования, увеличенным сроком службы нелинейных кристаллов, стабильной работой, высокой точностью позиционирования, отличной производительностью, а также модульной конструкцией, облегчающей монтаж и техническое обслуживание. Она обеспечивает исключительно тонкие линии маркировки, что делает её идеальным решением для задач, требующих высокоточной маркировки.
Он в основном используется для маркировки и обработки поверхностей различных материалов, включая стекло, TFT-дисплеи, ЖК-экраны, плазменные экраны, текстиль, тонкопленочную керамику, монокристаллические кремниевые пластины, микросхемы, сапфир и полимерные пленки. Его ключевое преимущество заключается в компенсации ограничений других длин волн лазера при тонкой обработке и применении в специальных материалах.